Rejilla láser de alta-potencia 950 l/mm 800 nm

Rejilla láser de alta-potencia 950 l/mm 800 nm

Para los sistemas láser-de vanguardia que funcionan en el infrarrojo cercano-, la precisión y el manejo de la potencia deben coexistir sin concesiones. Jilin Juyao Technology Co., Ltd. (JYTEC) presenta la rejilla láser de alta-potencia 950 l/mm 800 nm, una rejilla de difracción plana especializada diseñada para ofrecer un rendimiento excepcional en la longitud de onda crítica de 800 nm. Como fabricante dedicado, combinamos tecnología de reglaje de precisión con técnicas de revestimiento de alto-umbral de daño-para producir una rejilla que ofrece una eficiencia de difracción casi-teórica y la robustez necesaria para aplicaciones de láser de onda-continua y ultrarrápida de alta-potencia.
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Descripción
Parámetros técnicos
Número Densidad de línea (l/mm) Longitud de onda del resplandor (nm) ángulo de incendio Área de trazado (alto x ancho, mm²)
JY-087 950 800 22,3 grados 25×25&50×50

 

Ya sea que esté comprimiendo pulsos de femtosegundos o sintonizando un láser de Ti:Zafiro, este plano de rejilla está fabricado meticulosamente para garantizar un rendimiento consistente y confiable. Respaldados por nuestras instalaciones de I+D de 500㎡ y nuestro equipo de talentos-a nivel nacional, ofrecemos componentes que cumplen con los exigentes estándares de las principales instituciones de investigación y fabricantes de láseres industriales de la actualidad.

 

Características clave

 

 

  • Longitud de onda-Optimización específica: Diseñado específicamente para800nm, lo que garantiza la máxima eficiencia de difracción en esta longitud de onda crítica de Ti:Zafiro y láser ultrarrápido, al tiempo que mantiene un rendimiento excelente en un ancho de banda compatible.
  • Densidad de ranura optimizada de 950 l/mm: El950 l/mmLa densidad de ranura proporciona un equilibrio ideal entre la dispersión angular y el rango de longitud de onda operativa, lo que la hace muy efectiva para la compresión de pulsos ymonocromador de rejilla planaaplicaciones en el NIR.
  • Alto umbral de daño inducido por láser-(LIDT): Cuenta con recubrimientos dieléctricos avanzados diseñados para soportar las intensas potencias máximas de los sistemas láser de femtosegundos y picosegundos, lo que garantiza confiabilidad-a largo plazo en entornos exigentes.
  • Reglas de precisión para baja dispersión: Emplea técnicas avanzadas de reglaje para crear perfiles de ranura ultra-suaves, lo que minimiza la luz parásita y garantiza que ladifracción de rejilla planaLa eficiencia contribuye a una salida limpia y con una relación-señal-a-ruido alta y limpia.
  • Excelente fidelidad de frente de onda: Fabricado en sustratos de alta-calidad con una planitud excepcional, lo que garantiza una distorsión mínima del haz transmitido o reflejado-un parámetro crítico para la dirección y el enfoque del rayo láser de alta-precisión.

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